紫外UV臭氧清洗機的清洗是一個干燥的過程。而紫外臭氧清洗機內(nèi)會配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解，不會造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過高從而產(chǎn)生危害。紫外臭氧清洗機也可配置成連續(xù)加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，清除表面的顆粒。

紫外UV臭氧清洗機的工作原理，紫外線(UV)燈照射分為兩種波長(185和254 nm)。每個波長對化學反應都有不同的作用。185nm紫外線將氧分子O2解離成三聯(lián)體原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)與氧分子氧O2結(jié)合生成臭氧O3。

另一方面，254納米紫外線分解臭氧O3，形成分子氧O2和單線態(tài)原子氧O(1D)。單線態(tài)原子氧(1D)具有較強的氧化能力，與基體表面發(fā)生反應。在這個反應中，表面被氧化在無機基板上，如硅片。在有機材料中，分子的鏈斷裂發(fā)生，有機殘留物污染物作為揮發(fā)性副產(chǎn)物分子如CO2、H2O和O2被輕易地去除，從而能夠有效地清除無機基材表面的有機污染物。

紫外UV臭氧清洗機應用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領域都有應用。可以用于硅片和塑料包裝的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質(zhì)表面的有機污染物清洗。